Pregled izdelka
LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) je temeljna polprevodniška procesna tehnologija-pod nizkim-tlakom segreva plinaste spojine, da sproži reakcije, pri čemer na površine podlage nanese stabilne trdne tanke plasti. V glavnem se uporablja za izdelavo ključnih filmov, kot so silicijev nitrid, silicijev oksid in polikristalni silicij, in se popolnoma prilega osnovnim procesnim potrebam integriranih vezij, optoelektronskih naprav in podobnih področij.
EXWELL-ova neodvisno razvita vodoravna in navpična modela LPCVD izstopata z visoko-natančnim nadzorom temperature in vrhunsko-enotnostjo filma. Ne glede na to, ali opravljate preverjanje raziskav in razvoja ali povečujete-velikoserijsko proizvodnjo, so vam na voljo. Horizontalni LPCVD lahko gladko preklaplja med oksidacijo, difuzijo, žarjenjem in drugimi postopki-, kar je kot nalašč za serijsko proizvodnjo in preverjanje postopkov na 8-palčnih in manjših rezinah.
Navpični LPCVD je namenjen modularni zasnovi in avtomatizirani integraciji, ki pokriva 6-12-palčne specifikacije rezin. Je bolj primeren za inteligentne proizvodne linije, ki potrebujejo učinkovito odlaganje. Ta dva modela skupaj zagotavljata stabilne, zanesljive rešitve za nanašanje pod-nizkim tlakom za proizvodnjo polprevodnikov – brez muhaste nastavitve, samo dosledno delovanje, ko je pomembno.
Aplikacije
Oba modela se široko uporabljata v integriranih vezjih (IC), optoelektronskih napravah in-polprevodniških poljih s široko pasovno vrzeljo-, ki zajemajo vse od preverjanja raziskav in razvoja do množične proizvodnje v-polnem obsegu:
Proizvodnja IC:
Pripravlja okside vrat in vmesne dielektrike za CMOS, IGBT in podobne čipe. To je ključni korak pri zagotavljanju, da je zmogljivost čipa dosegla cilj.
Optoelektronska proizvodnja:
Odlaga optične filme za naprave VCSEL, prilagaja tako optične kot električne lastnosti za boljše delovanje.
Obdelava širokega-pasovnega razmika:
Brezhibno deluje z nanašanjem tankega-sloja silicijevega karbida (SiC), kar ustreza potrebam visokotemperaturnih naprav.
Znanstvene raziskave:
Podpira majhne{0}}serijske poskuse-ne glede na to, ali preizkušate nove materiale, kot je litijev niobat, ali nove postopke, kot je nanos filma kvantnega čipa.
Prednosti
1. Visoko{1}}kakovost nanašanja: profesionalni nadzor temperature in čiste komore zagotavljajo enakomerno nanašanje filma-Vodoravni modeli dosegajo manj kot ali enako ±2 % enakomernosti, navpični manj kot ali enako ±3 %.
2. Močna prilagodljivost: obravnava več vrst tankih-slojev in različne velikosti rezin (vodoravna največja velikost 8 palcev, navpična prevleka 6–12 palcev).
3. Stabilno delovanje: zrela struktura vodoravnega modela in zanesljiva zasnova obeh modelov omogočata neprekinjeno delovanje na dolge razdalje, kar skrajša čas izpadov.
4. Prilagodljivo preklapljanje med procesi: enostavno preklapljanje med oksidacijo, difuzijo, žarjenjem in drugimi postopki-popolno za več-procesno preverjanje.
5. Modularni in avtomatizirani: izdelani z modularno zasnovo in avtomatizirano integracijo, se gladko povezujejo z inteligentnimi proizvodnimi linijami. Navpični model prav tako ustreza potrebam množične proizvodnje 12-palčnih rezin.
Parametri
|
Velikost rezin |
6-12 palcev |
|
Temperaturno območje |
500 stopinj -800 stopinj |
|
natančnost nadzora temperature |
Manjše ali enako ±0,5 stopinje |
|
Flatzone |
300-1000 mm prilagodljiv |
|
Enakomernost debeline filma |
WIW Manjši ali enak ±3 %; WTW Manjši ali enak ±3 % |
pogosta vprašanja
Ko gre za združljivost velikosti rezin, kakšna je ključna razlika med vodoravnim in navpičnim LPCVD?
Vodoravni LPCVD deluje z 8-palčnimi rezinami in manjšimi, medtem ko navpični LPCVD pokriva širši obseg-6 do 12 palcev. Zaradi tega je navpični model boljša izbira za množično proizvodnjo velikih rezin.
Ali lahko oba sistema naneseta tanke plasti poleg silicijevega nitrida, silicijevega oksida in polikristalnega silicija?
Trenutno so v središču pozornosti ti trije tanki filmi. Če pa potrebujete posebne folije, lahko izdelamo rešitve po meri glede na vaše posebne procesne potrebe.
V kakšnem temperaturnem območju delujeta ti dve napravi LPCVD?
Precej sta si podobna-oba delujeta med 500 in 800 stopinjami. Ta obseg se popolnoma ujema s-postopkom kemičnega naparjevanja pri nizkem tlaku za večino rednih polprevodniških tankih plasti.
Katera možnost LPCVD deluje bolje za znanstvenoraziskovalne ustanove?
Horizontalni LPCVD je pravi način. Lahko preklaplja med postopki, kot so oksidacija, difuzija in žarjenje-, kar je zelo priročno za izpolnjevanje različnih potreb majhnih-serijskih raziskovalnih projektov.
Kako zagotovite, da sta tanka filma iz teh dveh naprav enakomerna?
Oba imata natančen sistem za nadzor temperature, ki je ključen za stabilne temperature v okoljih z nizkim{0}}tlakom. Za horizontalno prilagodimo procesne parametre, da povečamo enotnost; navpični model uporablja usklajen pretok zraka in zasnovo temperaturnega polja. Običajno so vodoravni zadetki Manjši ali enaki ±2 % enotnosti, navpični okoli Manjši ali enaki ±3 %.
Ali obe napravi delujeta dobro z inteligentnimi proizvodnimi linijami?
Navpični LPCVD je zasnovan za avtomatizirano integracijo, tako da se prilega v inteligentne linije in poveča učinkovitost. Horizontalni LPCVD daje prednost fleksibilnosti procesa, zato je manj integriran s pametnimi sistemi-, vendar še vedno pokriva osnovne potrebe proizvodnje ter raziskav in razvoja.
Kako pogosto ti dve napravi potrebujeta vzdrževanje?
Običajno je vzdrževanje potrebno vsakih 6 do 12 mesecev-, kot sta čiščenje votline in umerjanje sistema za nadzor temperature. Točen čas je odvisen od tega, kako pogosto ga uporabljate in kako zapleteni so vaši procesi, vendar bo naša po-prodajna ekipa redno pošiljala opomnike.
Ali je Horizontal LPCVD samo za raziskave in razvoj ali lahko obvlada tudi množično proizvodnjo?
Oboje je dobro. Je dovolj prilagodljiv za raziskave in razvoj v majhnih-serijah, njegova zrela, zanesljiva struktura (preizkušena na trgu) podpira tudi množično proizvodnjo 8-palčnih in manjših rezin – odlično za nastavitve, ki potrebujejo kombiniranih več procesov.
Priljubljena oznake: oprema lpcvd, Kitajska proizvajalci opreme lpcvd, dobavitelji
