Sistem za oblikovanje vzvratnega žarka

Sistem za oblikovanje vzvratnega žarka

Nice-Tech ponuja 8-palčne in 12-palčne sisteme RIBS, ki združujejo fizično razprševanje (od tradicionalnega IBS) z reaktivnimi plini za natančno oblikovanje materialov.
Pošlji povpraševanje
Opis

Pregled izdelka

Nice-Tech ponuja 8-palčne in 12-palčne sisteme RIBS, ki združujejo fizično razprševanje (od tradicionalnega IBS) z reaktivnimi plini za natančno oblikovanje materialov.

01/

Skupna zasnova:Ustvarjanje plazme je ločeno od območja rezin, da se prepreči motenje ne-hlapnih stranskih produktov; oba podpirata nastavitve nagiba/vrtenja odra in enojne komore/grozde.

02/

razlike:12-palec je prilagojen za množično proizvodnjo 12-palčnih rezin z ionskim virom velikega premera; 8-palčni je združljiv z 8/6/4-palčnimi rezinami, kar je idealno za srednje-majhno proizvodnjo ter raziskave in razvoj.

 

Prednosti

 

Skupne prednosti

  • Izboljšana učinkovitost in natančnost: Mešanje fizike in kemije poveča stopnjo odstranjevanja materiala in selektivnost maske. Neodvisen nadzor nad energijo in tokom ionskega žarka zagotavlja ostre in natančne morfologije vzorcev.
  • Prilagodljiva prilagodljivost postopka: nagib mize je od -90 stopinj do +80 stopinj za natančno nastavitev kota stranske stene. Vrtljivi oder izboljša enotnost, popolnoma primeren za izdelavo naprav posebnih oblik.
  • Široka združljivost z materiali: Brezhibno deluje s kovinami, zlitinami, oksidi in sestavljenimi polprevodniki-in se spopada tudi z najzapletenejšimi izzivi vzorčenja materialov.


Diferencirane prednosti

  • 12-palcev: vsebuje vir ionov velikega premera<1% etch uniformity (1σ). Ideal for high-precision 12-inch advanced processes.
  • 8-palčni: Ponudbe<3% uniformity in a compact, cost-effective design. Compatible with multi-size wafers, making it perfect for mature nodes and R&D projects.

 

Aplikacije

 

Pogoste aplikacije
1. Posebne optične strukture: Zagotavlja poševne in bleščeče rešetke-našo{2}}vodilno zmogljivost v industriji-za optične komunikacijske sisteme in laserske tehnologije.
2. Kompleksne polprevodniške naprave: vzorci več-slojnih kovinskih skladov in heterospoj, ki zagotavljajo zanesljivo delovanje naprave v-zahtevnih aplikacijah.
3. Visoko{1}}natančni senzorji: izdeluje MEMS in optične senzorje z ultra-natančnimi mikrostrukturami, ki neposredno povečujejo občutljivost senzorjev in stabilnost delovanja.


Diferencirane aplikacije
1. 12-palec: temelj za 12-palčne napredne proizvodne linije – funkcionalne plasti MRAM/PCRAM in silicijeve fotonske čipe. Brezhibno se integrira z obstoječimi 12-palčnimi proizvodnimi poteki dela.
2. 8-inch: Idealno za 8-palčna zrela vozlišča (večja ali enaka 0,11 μm) ter projekte raziskav in razvoja, kot so miniaturni optični senzorji in specializirani MEMS. Podpira prilagodljivo preklapljanje velikosti rezin, da ustreza različnim razvojnim potrebam.

 

Parametri

 

Kategorija

8-palčni sistem RIBS

12-palčni sistem RIBS

Združljivost rezin

8-palčni (primarni); 6-palčni/4-palčni (izbirno, prek združljivih elektrod)

12-palčni (ekskluzivno)

Enotnost jedkanja (1σ)

<3% (standard ion source configuration)

<1% (large-diameter ion source as standard, for high-precision 12-inch wafer processing)

Nadzor ionskega žarka

Neodvisna nastavitev energije in toka ionskega žarka (omogoča natančno nastavitev spodnjega kota in ravnosti vzorca)

Neodvisna prilagoditev energije in toka ionskega žarka (zagotavlja natančen nadzor nad napredno morfologijo procesa)

Razpon nagiba odra

-90 stopinj do +80 stopinj (realizira nagnjen vpad ionskega žarka za nadzor kota stranske stene)

-90 stopinj do +80 stopinj (podpira nagnjeni vpad za izpolnjevanje zahtev zapletenega vzorca stranske stene)

Odrska funkcija

Možnost vrtenja med procesom (izboljša osno simetrijo procesa in enotnost-rezin)

Možnost vrtenja med procesom (zagotavlja dosledno kakovost obdelave velikih 12-palčnih rezin)

Procesno okolje

Visok{0}}vakuumsko okolje (zmanjša motnje okolice, zagotavlja stabilno kemično reakcijo in razprševanje)

Visok{0}}vakuumsko okolje (ohranja zanesljivo sinergijo fizikalnega razprševanja in kemičnih reakcij)

Konfiguracija komore

Konfiguracije z eno-komoro ali grozdom (izbirno, primerno za majhno-srednje proizvodnjo ter raziskave in razvoj)

Vgradljiv v različne sisteme gruče (združljiv z-velikimi 12-palčnimi naprednimi procesnimi linijami)

Združljivost materiala

Kovine, zlitine, oksidi, sestavljeni polprevodniki, izolatorji (rešuje kompleksne izzive vzorčenja materialov)

Kovine, zlitine, oksidi, sestavljeni polprevodniki in več-plastni nizi (ustreza naprednim potrebam izdelave naprav)

Osnovni scenariji uporabe

8-palčna zrela procesna vozlišča (večja ali enaka 0,11 μm), mini optični senzorji, posebne raziskave in razvoj MEMS, proizvodnja kompleksnih komponent v majhnih serijah

12-palčni napredni procesi (npr. funkcionalni sloji MRAM/PCRAM), silicijevi fotonski čipi, proizvodnja polprevodnikov visoke{4}}visoke natančnosti

 

pogosta vprašanja

 

V: Kakšna je ključna razlika med 8-palčnim in 12-palčnim sistemom RIBS?

O: 12-palčni je namenjen visoko-natančni 12-palčni masovni proizvodnji; 8-palčni ustreza rezinam več velikosti (8/6/4-palčni) za zrela vozlišča in raziskave in razvoj.

V: Katere materiale lahko obdelujejo?

O: Oba obravnavata kovine, zlitine, okside, sestavljene polprevodnike in izolatorje.

V: Ali lahko izdelajo posebne optične strukture?

O: Da, oba se odlikujeta s poševnimi/bleščečimi rešetkami z-vodilno zmogljivostjo v industriji.

V: Ali so sistemi združljivi z obstoječimi proizvodnimi linijami?

O: Da, oba podpirata konfiguracije gruče in sta skladna s standardi polprevodniške industrije za enostavno integracijo.

 

Priljubljena oznake: sistem za oblikovanje obratnega snopa, proizvajalci, dobavitelji sistemov za oblikovanje povratnega snopa na Kitajskem

Pošlji povpraševanje