Pregled izdelka
HII 100 je specializiran H/He ionski implantator. Je namensko-zgrajen za postopke implantacije vodikovih in helijevih ionov, zlasti za elektrostatično{3}}implantacijo občutljivega izolacijskega materiala in tehnologijo-cepitve plasti. Sprejema arhitekturo serijske implantacije, oprema podpira visoko-energijsko in visoko-odmerno implantacijo. Opremljen je z dvo-stransko funkcijo plazemske prhe za učinkovito ublažitev kopičenja naboja in elektrostatične poškodbe na rezinah. To orodje služi proizvodnji sestavljenih-polprevodnikov, dvigu-materiala SOI, modifikaciji materiala in s tem povezanim zahtevam za raziskave in razvoj ter pilotno-proizvodnjo za 4-palčne in 6-palčne rezine.
Prednosti
1. Dvo-stranski sistem plazemske prhe: Učinkovito zavira poškodbe zaradi elektrostatičnega naboja, zelo primeren za vsaditev elektrostatično{2}}občutljivih izolacijskih podlag.
2. Serijska implantacija z visoko-energijo in visokim{2}}odmerkom: podpira serijsko obdelavo rezin z visoko največjo energijo in zmožnostjo velikega odmerka, kar izboljša pretok za-prenos plasti in postopke cepitve.
3. Optimizirano za H/He prevladujočo implantacijo: linijski sistem-žarka je nastavljen za vodikove in helijeve ione; združljiv tudi z B, Ar in drugimi vrstami pomožnih vsadkov za raznolike procesne zahteve.
4. Nadzorovana procesna temperatura: Stabilen nadzor temperature rezin znotraj RT-200 stopinj za izpolnjevanje toplotnih omejitev posebnih materialov.
Robustna stabilnost žarka: Zanesljiv vir ionov in zasnova transporta žarka zagotavljata dolgoročno-stabilnost za raziskave materialov in pilotno-serijsko proizvodnjo.
Aplikacije
Od-dvig materiala/razdelitev plasti za SOI in podobne tehnologije pametnega{1}}reza
Implantacija za izolacijske in elektrostatično-občutljive materiale
Modifikacija sestavljenega-polprevodniškega materiala
Znanstvene raziskave, razvoj novih-materialov in pilotna proizvodnja
Parametri
|
Postavka |
Specifikacija |
|
Velikost oblatov |
6 palcev, 4 palcev |
|
Energijski obseg (en-polnjenje) |
30-400 keV |
|
Vrste vsadka |
H, On, B, Ar |
|
Procesna temperatura rezin |
RT-200 stopinj |
pogosta vprašanja
V: Kaj je ključna lastnost HII 100 v primerjavi z implantatorji za splošno uporabo?
O: Njegov glavni poudarek je dvostranska funkcija plazemske prhe, ki rešuje tveganje elektrostatične poškodbe za izolacijo in naboj občutljivih rezin. Optimiziran je za visokoodmerno serijsko implantacijo H/He za postopke cepitve materiala.
V: Za katere tipične procese se v glavnem uporablja HII 100?
O: Široko se uporablja za cepitev plasti, ki jo povzroča H/He (Smart Cut), ionsko implantacijo izolacijskega materiala in modifikacijo materiala sestavljenih polprevodnikov. Primeren je tako za laboratorijske raziskave kot za pilotno proizvodnjo majhnih serij.
V: Katere velikosti rezin lahko prenese HII 100?
O: Standardna podpora za 4 in 6 inčne rezine. Na zahtevo lahko za posebne majhne kose upoštevamo držala za vzorce po meri.
V: Ali lahko HII 100 vsadi ione, ki niso H in He?
O: Da. Poleg H in He podpira B in Ar za pomožne procese implantacije.
V: Kakšno je delovno temperaturno območje med implantacijo?
O: Temperatura procesne rezine se giblje od sobne temperature do 200 stopinj, kar ustreza zahtevam toplotno občutljivega substrata.
V: Ali lahko HII 100 deluje skupaj z drugimi implantanti SEMICORE ZKX?
O: Da. Lahko sodeluje z namenskimi implantatorji SiC, večnamenskimi prilagojenimi implantatorji in platformami serije CIP/CIC/CIE proizvodnega razreda. Lahko dokonča predhodne raziskave receptov za posebne materiale pred poskusi množične proizvodnje.
V: Katere poprodajne storitve so na voljo?
O: Zagotavljamo dobavo rezervnih delov, namestitev in zagon na kraju samem, redno vzdrževanje in tehnično podporo za odpravljanje napak v posebnih procesih.
Priljubljena oznake: h/he ionski implanter, Kitajska h/he ionski implanter proizvajalci, dobavitelji
